沉阳仪表科学研究院申请半导体检测用紫外非均质材料滤光片专利可有效消除紫外非均质材

最后编辑时间:2025-01-26 07:05:41 来源:未知 作者:未知 阅读量: 未知

  金融界2025年1月24日消息,国家知识产权局信息显示,沉阳仪表科学研究院有限公司申请一项名为“半导体检测用紫外非均质材料滤光片”的专利,公开号 CN 119335637 A,申请日期为2024年12月。

  专利摘要显示,本发明属于光学滤光片领域,尤其涉及一种半导体检测用紫外非均质材料滤光片,由基片及镀制其上的基础膜系构成,所述基础膜系的结构为:S k (bHaLHaLbHcL)^n A;其中:S为玻璃基底,A为空气,H为高折射率材料,L为低折射率材料,k为波长系数,a、b、c为匹配系数,通过匹配系数调整光谱通带波纹,n为膜系的总体循环个数,决定膜系的陡度和截止深度。本发明方法简单易行,可有效消除紫外非均质材料对光谱特性的影响,确保光谱谱型。

  天眼查资料显示,沉阳仪表科学研究院有限公司,成立于2000年,位于沉阳市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本23000万人民币,实缴资本23000万人民币。通过天眼查大数据分析,沉阳仪表科学研究院有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目440次,知识产权方面有商标信息4条,专利信息607条,此外企业还拥有行政许可68个。

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